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SiC-Kristallwachstumsrohstoff
SiC-Kristallwachstumsrohstoff
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SiC-Kristallwachstumsrohstoff


Herkunftsort: China, Kambodscha
Markenname: Semixlab
Modellnummer: CVD-SiC
Zertifizierung: ISO 9001
Mindestbestellmenge: Einige kg (Unterstützung beim Kauf kleiner Chargen auf F&E-Ebene)
Preis: Passen Sie Angebote an die Spezifikationen an und unterstützen Sie Bestellungen mit hoher Reinheit (≥99.9999 %).
Verpackungsdetails: Mit hochreinem Inertgas versiegelte Flasche, feuchtigkeitsbeständiger und oxidationshemmender Aluminiumfolienbeutel
Lieferzeit: 7–15 Tage (Standard) / 20–30 Tage (benutzerdefinierte Formel)
Zahlungsbedingungen: T/T (50 % im Voraus, 50 % vor Lieferung)
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: Monatliche Produktionskapazität 500 kg, unterstützt Bestellungen mit hoher Reinheit (≥99.9999 %)
Beschreibung

SiC-Kristallwachstumsrohstoff ist das neueste, von Semixlab entwickelte Material. Hauptbestandteil ist der CVD-SiC-Block. Die Qualität des aus diesem Rohstoff gezüchteten SiC-Einkristalls ist hervorragend und branchenführend.

Produktkern hell

Subversiver Vorbereitungsprozess

Durch die Verwendung einer unabhängigen patentierten Fließbett-CVD-Technologie (Patentnummer: ZL2024XXXXXXX) und Methyltrichlorsilan (MTS) als Vorläufer wird Folgendes erreicht:

Reinheit > 99.9995 % (GDMS-Gesamtelementanalyse)

Stickstoffgehalt ≤0.09 ppm (keine zusätzliche Reinigung)

Partikelgröße 4–10 mm (herkömmliche Selbstverteilungsmethode < 2.5 mm)

Vorteil des Kristallwachstums

Index konventionelles selbstverteilendes SiC-Pulver Semixlab SiC-Kristallwachstumsrohstoff
Die Dichte der Mikrotubuli lag zwischen 103~ 104cm-2 < 300 cm-2
Die Auslastungsrate der Rohstoffe 30%-40% > 50%

Umweltschutz und Wirtschaft

Keine Schadstoffe freisetzen: Salzsäure kann zu Salz neutralisiert werden

Kostensenkung um 30 %: Rohstoff Methyltrichlorsilan ist Chinas dominierende Chemikalie

SiC-Kristalle, gezüchtet unter Verwendung von SiC-Kristallwachstumsrohstoff

Schnelles Detail:

1. Andere Namen: CVD-SiC-Block; SiC-Fragment.

2. Anwendung: Rohmaterial für das Wachstum von SiC-Einkristallen.

3. Kernparameter: Reinheit > 99.9995 % (GDMS-Gesamtelementanalyse), Stickstoffgehalt ≤ 0.09 ppm (keine zusätzliche Reinigung), Partikelgröße 4–10 mm (herkömmliche Selbstausbreitungsmethode < 2.5 mm).

Spezifikationen

Anwendungen

Rohmaterial für das Wachstum von SiC-Einkristallen.

Wettbewerbsvorteilen

1. Ein Durchbruch in Sachen Reinheit

Reinheit ≥99.9995 % (GDMS-Gesamtelementanalyse). Der Stickstoffgehalt ≤0.09 ppm wurde durch chemische Gasphasenabscheidung erreicht (keine Nachreinigung). Besonders geeignet für die Züchtung halbisolierender SiC-Einkristalle.

2. Optimierung von Partikelgröße und -dichte

Große Partikelgröße (4–10 mm), deutliche Verbesserung der Crucpot-Ladekapazität (mehr als 1.5 kg bei gleichem Volumen), Reduzierung von Kohlenstoffeinkapselungsdefekten während des Kristallwachstums.

3. Der Kostenvorteil ist erheblich

Reduzieren Sie die Rohstoffkosten um 30 %.

Bei Verwendung von Methyltrichlorsilan (MTS) als Vorläufer betragen die Rohstoffbeschaffungskosten nur 1/3 der Kosten für die herkömmliche Herstellung von hochreinem Silicastaub und Graphit. Die Rohstoffausnutzungsrate liegt bei > 50 % (herkömmliches Verfahren nur 30–40 %).

4. Umweltschutz-Kreislaufprozess

Keine Schadstoffemissionen.

Salzsäure, das Nebenprodukt der Produktion, erzeugt durch Neutralisationsreaktion unschädliche Salze, wodurch die drei Abfallbehandlungsprobleme traditioneller Verfahren vollständig vermieden werden (die Kosten für Beizen/Abgasbehandlung betragen mehr als 15 %).

5. Kristallqualitätssprünge

Die Dichte der Mikrotubuli betrug < 300 cm-2.

Das Si/C-Atomverhältnis des Rohmaterials liegt nahe bei 1:1 (Abweichung bei herkömmlichen Verfahren > 5 %), wodurch die Silizium-Segregationsdefekte während des Kristallwachstums reduziert werden. Die Barrenausbeute beträgt 85–92 % (65–75 % der Konkurrenzprodukte), wodurch der Einkristall-Schneidverlust nachfolgender Kunden reduziert wird.

ANFRAGE

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