Weicher Filz aus hochreinem Graphit

Semixlab ist ein führender Hersteller von hochreinem Graphit-Weichfilz in China und konzentriert sich auf die Bereitstellung leistungsstarker Wärmedämmlösungen für die Halbleiter-, Photovoltaik- und Hochtemperaturindustrie. Dieses Produkt verwendet importierten hochreinen Graphitrohstoff (Verunreinigungsgehalt ≤ 0.1 %), wird durch ein spezielles Verfahren zu einer Fasernetzwerkstruktur verarbeitet und zeichnet sich durch Kerneigenschaften wie eine extrem niedrige Wärmeleitfähigkeit (≤ 0.25 W/m·K bei 1000 °C), extrem hohe Temperaturbeständigkeit (Dauergebrauchstemperatur von 3000 °C) und chemische Inertheit aus. Damit ist es ein ideales Material für den Bau präziser Wärmefeldsysteme.

Hochreiner Graphitweichfilz dient als Kernisolationsmaterial für das Wärmefeldsystem von Halbleiter- und Photovoltaikanlagen. Durch präzises Weben und Stapeln hochreiner Graphitfasern entsteht eine poröse Struktur mit geringer Wärmeleitfähigkeit. In Umgebungen mit hohen Temperaturen (z. B. über 800 °C) reduziert es den Wärmeverlust deutlich, indem es Strahlungswärme reflektiert und den Wärmeübertragungsweg in der Festphase verkürzt.

Je nach Rohstoffunterschied werden die Produkte in drei Kategorien unterteilt:

Weicher Graphitfilz auf PAN-Basis: hervorragende mechanische Eigenschaften, einfacher Herstellungsprozess, breite Anwendung in strukturellen Trägermaterialien.

Weicher Graphitfilz auf Viskosebasis: starke Ablationsbeständigkeit, hoher technischer Schwierigkeitsgrad, geeignet für die Wärmedämmung bei hohen Temperaturen.

Weicher Graphitfilz auf Pechbasis: reich an Rohstoffen, hohe Karbonisierungsausbeute, aber die Marktanwendung ist begrenzt.

1. Ausrüstung zur Halbleiterherstellung

System zum Züchten von Silizium-Einkristallen:

Im Einkristallofen mit der CZ-Methode werden der Graphitheizer und der Quarztiegel umwickelt, um eine genaue Kontrolle des Schmelztemperaturgradienten (axialer Temperaturunterschied ≤ 2 °C/cm) zu erreichen und die Stabilität der Einkristallwachstumsrate sicherzustellen.

Siliziumkarbid-Kristallzüchtungsofen:

Bei Verwendung der PVT-Methode kann der weiche Filz als Kernisolationsschicht die Gleichmäßigkeit des axialen Wärmefelds im Ofen um 40 % erhöhen und die Kristalldefektrate auf < 0.5/cm² reduzieren.

2. Ausrüstung für die Photovoltaikindustrie

Ofen für polykristalline Barren:

Das modulare Montagedesign verbessert den thermischen Wirkungsgrad des Ofens auf 85 %, was einer Energieeinsparung von 30 % im Vergleich zum herkömmlichen Hartfilz aus Kohlenstoff entspricht.

3. Hochtemperatur-Industrieanlagen

Die Abschreckkühlrate der Wärmedämmauskleidung in der Heizkammer des Vakuum-Hochdruck-Gasabschreckofens wird um 20 % erhöht.

Das dynamische Dichtungssystem in der Sinterzone des Vakuumsinterofens reduziert den Argongasverbrauch um 15 %.

Ultrahohe Reinheit: Asche ≤ 500 ppm, 200 ppm, 20 ppm, kann angepasst werden.

Extrem hohe Temperaturbeständigkeit: maximale Betriebstemperatur 3000 °C.

Säure- und Alkalikorrosionsbeständigkeit: (PH 2-12), keine Reaktivität. 

Anpassung der technischen Lösung: Wärmefeldsimulation + Materialauswahl, Verbindungsdesign.

Differenzierende Vorteile: 200 % höhere Temperaturbeständigkeit als herkömmlicher Kohlenstofffilz, 50 % geringere Wärmeleitfähigkeit als Graphitfilz der Konkurrenz, unterstützt die Integration dynamischer Dichtungssysteme.