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CVD-Siliziumkarbid (SiC)-Beschichtung

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CVD-SiC-beschichteter Wafer-Schiff für die Oxidationsdiffusion
CVD-SiC-beschichteter Wafer-Schiff für die Oxidationsdiffusion

CVD-SiC-beschichteter Wafer-Boot für Oxidation und Diffusion


In der realen Halbleiterfertigung werden Waferboote häufig in Hochtemperaturprozessen wie Oxidation, Diffusion, Tempern und Wärmebehandlung eingesetzt. Diese Bauteile beeinflussen direkt die Stabilität der Wafer, die Temperaturhomogenität und die Partikelkontrolle im Inneren der Kammer.

Beschreibung

Bei Semixlab stellen wir SiC-beschichtete Waferboote für anspruchsvolle Halbleiterumgebungen her – wo Konsistenz, Reinheit und eine lange Lebensdauer wirklich wichtig sind.

Wir verwenden hochreines Siliciumcarbid-Keramik (SiC-Keramik, Reinheit über 99.9 %) und tragen eine dichte CVD-Siliciumcarbid-Beschichtung (CVD-SiC) mit einer Reinheit von 6N auf. Dadurch behalten unsere Boote auch nach wiederholtem Erhitzen und Abkühlen ihre strukturelle Stabilität und tragen dazu bei, das Kontaminationsrisiko während der Produktion zu reduzieren.

Was ist überhaupt ein SiC-beschichtetes Wafer-Boot?

Ein Waferboot ist im Grunde ein Träger, der mehrere Wafer während der Wärmebehandlung hält. Er sorgt für den richtigen Abstand und die nötige Stabilität der Wafer und gewährleistet gleichzeitig eine gleichmäßige Wärmeverteilung.

Im Vergleich zu herkömmlichen Graphit-Waferträgern bieten moderne SiC-Keramik-Waferboote eine bessere thermische Stabilität, Reinheitskontrolle und Oxidationsbeständigkeit in Halbleiterofenumgebungen. Unter den aggressiven Bedingungen der Halbleiterfertigung können jedoch mit der Zeit Probleme wie Oberflächenoxidation, Ablösung von Partikeln oder chemische Erosion auftreten.

Deshalb entscheiden sich viele für eine SiC-Beschichtung.

Die Siliciumcarbidschicht bildet eine dichte Schutzschicht auf der Graphitoberfläche. Sie verbessert:

-Oxidationsbeständigkeit

-Chemische Korrosionsbeständigkeit

-Oberflächenhärte

-Partikelkontrolle

-Wie lange das Teil hält

Aus diesem Grund werden CVD-SiC-beschichtete Waferboote häufig in Oxidationsöfen, Diffusionsöfen und anderen hochreinen thermischen Verarbeitungssystemen eingesetzt.

Hauptmerkmale der SiC-beschichteten Waferboote von Semixlab

Hochreine Oberfläche

Verunreinigungen können die Waferausbeute direkt beeinträchtigen. Wir optimieren unseren Beschichtungsprozess für Halbleiterqualität, um metallische Verunreinigungen während der Produktion zu minimieren.

Hohe thermische Stabilität

Während der Oxidations- und Diffusionsprozesse müssen Wafer-Boote auch unter wiederholten Hochtemperaturzyklen formstabil bleiben und ultrareine Oberflächen aufweisen. Unsere Wafer-Boote sind so konstruiert, dass sie ihre Abmessungen auch nach wiederholten Aufheiz- und Abkühlzyklen beibehalten.

Geringe Partikelbildung

Da die Oberfläche verdichtet ist, wird weniger Graphit freigelegt – das bedeutet, dass sich weniger Partikel ablösen und eine sauberere Prozessumgebung entsteht.

Gleichmäßige Beschichtung

Komplexe Schlitzstrukturen und Ecken erfordern eine gleichmäßige Beschichtungsdicke. Unser hauseigenes Beschichtungsverfahren trägt dazu bei, eine bessere Oberflächenhomogenität über das gesamte Bauteil zu erzielen.

Kundenspezifische Bearbeitungsmöglichkeiten

Unterschiedliche Anlagenplattformen erfordern unterschiedliche Abmessungen. Wir unterstützen kundenspezifische Konstruktionen basierend auf Ihren Zeichnungen oder Prozessanforderungen.

Fertigung & Qualitätskontrolle

Jedes Wafer-Boot durchläuft eine präzise Keramikbearbeitung, Oberflächenvorbereitung und die Abscheidung einer hochreinen CVD-SiC-Beschichtung.

Bei Semixlab durchläuft jedes Teil folgenden Prozess:

-Rohstoffprüfung

-Präzisions-CNC-Bearbeitung

-Oberflächenreinigungsbehandlung

-CVD-SiC-Beschichtung

-Dimensionsprüfung

-Abschließende Sicht- und Qualitätsprüfung

Wir tun dies, damit Sie eine zuverlässige Leistung erhalten, bevor das Teil überhaupt in Ihr Werkzeug eingebaut wird.

Warum Semixlab wählen?

Wir sind ein spezialisierter Hersteller von Halbleitergraphit und Beschichtungskomponenten. Wir unterstützen unsere Kunden bei:

-Hauseigene Beschichtungstechnologie

-Flexible kundenspezifische Fertigung

-Schnelle technische Kommunikation

-Kenntnisse über Halbleiterprozesse

-Stabile internationale Lieferfähigkeit

Ob Sie Anlagen entwickeln, eine Pilotlinie betreiben oder eine Massenproduktion durchführen – unser Ingenieurteam kann Sie bei Ihren Anwendungsanforderungen unterstützen.

Wenn Sie einen zuverlässigen Lieferanten für SiC-beschichtete Waferboote suchen, kann Ihnen Semixlab maßgeschneiderte Lösungen auf Basis Ihrer Zeichnungen oder Prozessbedingungen anbieten.

Spezifikationen
Eigenschaft Typischer Wert
Grundwerkstoffe Hochreine Siliciumcarbid-Keramik (>99.9 %)
Beschichtungsmaterial CVD-Siliciumcarbid (CVD-SiC, bis zu 6N Reinheit)
Beschichtungsdicke Kundenspezifische
Umgebungstemperaturbereich Bis zu 1600 ° C.
Oberflächenfinish Präzisionsgefertigt
Kundenspezifische Gestaltung Verfügbar

Die tatsächlichen Spezifikationen können je nach Anwendungsbedingungen angepasst werden.

Anwendungen

CVD-SiC-beschichtete Waferboot-Anwendung

Unsere SiC-beschichteten Waferboote finden breite Anwendung in:

● Halbleiter-Oxidationsöfen

● Halbleiterdiffusionsöfen

● Thermische Glühsysteme

● Wärmebehandlungsanlagen für Halbleiter

● Anwendungen für fortgeschrittene Halbleiterforschung und -entwicklung

● Glühprozesse

● Forschung an Hochtemperatur-Halbleitermaterialien

Unsere Dienstleistungen

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