Hochreines Quarzdiffusionsofenrohr

Das hochreine Quarzdiffusionsofenrohr ist speziell für Hochtemperaturdiffusionsprozesse bei der Herstellung von Halbleiterwafern konzipiert. Es wird aus ultrahochreinem synthetischem Quarzsand (SiO) hergestellt.₂Reinheit ≥99.999 %). Erfüllt die strengen Anforderungen an Sauberkeit, thermische Stabilität und chemische Inertheit fortschrittlicher Prozesse unter 7 nm. Produkte werden durch Lichtbogenschmelzverfahren und Präzisionsbearbeitungstechnologie hergestellt, um die Stabilität der Struktur in der Hochtemperaturumgebung von 1200 °C zu gewährleisten. Sie werden häufig bei Phosphor-/Bor-Dotierung, Oxidwachstum und anderen wichtigen Prozessen eingesetzt.

Kernmaterialien und Eigenschaften

Ultrahochreines Material

SiO₂-Reinheit: ≥99.999 % (5N-Klasse), Gesamtverunreinigungselement ≤2 ppm (entsprechend SEMI F63-Standard).

Kontrolle wichtiger Verunreinigungen: Li+Na+K≤0.5 ppm, Fe≤0.1 ppm, Al≤0.3 ppm, B≤0.05 ppm (Dotierungsstörungen vermeiden).

Hydroxylgehalt: ≤ 1 ppm (nach Dehydroxylierungsbehandlung zur Vermeidung von Waferdefekten durch Wasserstoffentwicklung bei hohen Temperaturen).

Optimierung der thermischen Leistung

Wärmeausdehnungskoeffizient: 5.5×10^-7K^-1(20–1000 °C), wodurch Verformungsrisse durch plötzliche Temperaturänderungen vermieden werden.

Erweichungspunkt: 1680 °C, langfristige Arbeitstemperatur ≤ 1250 °C (unterstützt schnellen Anstiegs- und Abkühlungsprozess).

Thermoschockbeständigkeit: Hält 1200 °C stand → Abschreckzyklus bei Raumtemperatur ≥ 200 Mal (Verifizierung nach ASTM C338-Standard).

Chemische Inertheit und Sauberkeit

Korrosionsbeständigkeit: beständig gegen HF, HCl, HNO₃ und andere starke Säuren (Gewichtsverlustrate ≤0.005mg/cm²·h).

Oberflächenreinheit: Ra ≤ 0.1 μm (CMP-Polieren), Partikel ≤ 5/m2 (@0.1 μm, entsprechend ISO-Klasse 1).

Kontrolle der Metallverschmutzung: Metallrückstände auf Oberflächen ≤ 0.1 ppb (ICP-MS-Erkennung).

Schnelles Detail:

1. Andere Namen: Quarzreaktionsrohr, Hochtemperaturofenrohr.

2. Anwendung: Waferdiffusionsprozess.

3. Kernparameter: Reinheit ≥99.995 %, Temperaturbeständigkeit 1600 °C, Innendurchmesser 20–300 mm.

Hochtemperaturdiffusionsdotierung.

Diffusion von Phosphor-/Bor-Festkörperquellen (1000–1200 °C).

Rapid Thermal Annealing (RTA)-Prozess (Anstiegs-/Abkühlungsrate ≥100℃/s).

Ultrahohe Reinheit und Kristallisationsbeständigkeit verlängern die Lebensdauer des Ofenrohrs.

Unterstützt komplexe Strukturdesigns und passt sich an unterschiedliche Prozessanforderungen an.

Strenge Kontrolle der Maßtoleranzen (±0.5 mm).