Halbleiter-Quarzwafer

Der Semixlab Halbleiter-Quarzwafer ist ein präzisionspoliertes, hochreines Quarzglassubstrat, das für anspruchsvolle Halbleiterverarbeitungsumgebungen entwickelt wurde.

Es findet breite Anwendung als Dummy-Wafer, Träger-Wafer, optisches Substrat und Fotomaskenbasis in thermischen Oxidations-, CVD/LPCVD-, PECVD- und Lithographiesystemen.

Dieser aus 99.99% hochreinem SiO₂ hergestellte Quarz-Wafer bietet außergewöhnliche thermische Stabilität, chemische Inertheit und optische Transparenz und gewährleistet so einen stabilen und kontaminationsfreien Betrieb in modernen Halbleiterfertigungslinien.

I. Material- und Oberflächeneigenschaften

● Material: Synthetisches oder natürliches Quarzglas (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Durchmesseroptionen: 2", 4", 6", 8", 12" (Sondergrößen auf Anfrage).

● Oberflächenbeschaffenheit: Beidseitig poliert, Ebenheit ≤ 5 μm, Oberflächenrauheit ≤ 0.5 nm.

● Wärmebeständigkeit: Stabil bis zu 1200°C im Dauerbetrieb.

● Wärmeausdehnungskoeffizient: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Optische Transmission: >90% von 190 nm bis 2,600 nm.

Jeder Wafer wird einer strengen Oberflächenprüfung, Maßkontrolle und Reinheitsanalyse unterzogen, um die vollständige Einhaltung der Anforderungen an Halbleiterqualität zu gewährleisten.

II. Schlüsselfunktionen in Halbleiterprozessen

1. Prozessträger in CVD- und LPCVD-Systemen

Quarzscheiben dienen als Dummy- oder Abstandsscheiben, um den Gasfluss und die Temperaturhomogenität während der Dünnschichtabscheidung von SiO₂, Si₃N₄ und Polysilizium zu stabilisieren. Ihre Maßgenauigkeit gewährleistet ein gleichmäßiges Schichtwachstum und eine minimale Partikelbildung während der gesamten Abscheidungszyklen.

2. Anwendungen von Oxidations- und Diffusionsöfen

Bei Hochtemperatur-Oxidations- und Dotierstoffdiffusionsprozessen dienen Quarzwafer als thermische Schutzschilde oder Prozessmonitore, indem sie eine gleichmäßige Temperaturverteilung gewährleisten und eine Kontamination der Produktionswafer verhindern.

3. Optische und lithografische Anwendungen

Dank seiner hohen optischen Transmission und gleichmäßigen Brechungsindexverteilung eignet sich der Quarzwafer ideal für die Herstellung von Fotomasken, als Substrat für die DUV-Belichtung und für optische Kalibrierwerkzeuge. Er gewährleistet eine gleichbleibende Lichtdurchlässigkeit für i-Linien-, KrF- und ArF-Lithographiesysteme.

4. Plasma- und Ätzumgebungen

Bei Trockenätz- und Plasma-CVD-Systemen werden Quarzscheiben als Kammerabschirmungen oder Plasmafenster eingesetzt, die eine ausgezeichnete dielektrische Festigkeit und chemische Beständigkeit gegenüber halogenbasierten Gasen (CF₄, SF₆, Cl₂) bieten.

5. Messtechnik und Gerätekalibrierung

Quarzwafer dienen als Referenzwafer für die Kalibrierung von Schichtdicke, Temperatur und Ebenheit. Ihre ultra-glatte, fehlerfreie Oberfläche ermöglicht präzise und reproduzierbare Messergebnisse und gewährleistet so die Stabilität der Prozesssteuerung.

Typische Anwendungen

● Dummy-Wafer für CVD-, LPCVD- und PECVD-Systeme

● Prozessträger oder Wärmeschild in Oxidations- und Diffusionsöfen

● Fotomaskensubstrat für UV/DUV-Lithographie

● Referenzwafer für Gerätekalibrierung und Metrologie

● Plasmakammerfenster und Schutzvorrichtung für den Ätzprozess

Der Semixlab-Quarzwafer ist ein Hochleistungssubstrat, das speziell für anspruchsvollste Halbleiterprozesse entwickelt wurde. Seine thermische Stabilität, optische Präzision und chemische Reinheit machen ihn unverzichtbar für Abscheidung, Oxidation, Lithografie und Messtechnik. Mit umfassender Anpassung und technischer Unterstützung bietet Semixlab Lösungen, die Prozesskonsistenz, Ausbeutesicherheit und Betriebseffizienz maximieren. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.