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Fokusring aus massivem SiC zum Ätzen
Der Fokusring aus massivem SiC ist eine Schlüsselkomponente in modernen Halbleiter-Plasmaätzsystemen. Er umschließt den Waferrand während des Ätzprozesses und reguliert die Plasmaverteilung sowie die Gleichmäßigkeit des elektrischen Feldes, um konsistente Ätzprofile über die gesamte Waferoberfläche zu gewährleisten. Hergestellt aus hochreinem, vollständig dichtem Siliziumkarbid (SiC), bietet dieser Fokusring eine hervorragende Beständigkeit gegen Plasmaerosion, eine exzellente Wärmeleitfähigkeit und eine herausragende Dimensionsstabilität. Dadurch eignet er sich ideal für Plasmaätzprozesse mit hoher Dichte (ICP, RIE, DRIE).
Beschreibung
Der Solid-SiC-Fokusring für Ätzprozesse von Semixlab vereint fortschrittliche Materialien, präzise Fertigung und bewährte Prozessleistung. Er wurde für hohe Plasmabeständigkeit und minimale Kontamination entwickelt und gewährleistet so überlegene Gleichmäßigkeit, längere Lebensdauer und einen stabilen Werkzeugbetrieb auch unter anspruchsvollen Ätzbedingungen.
Spezifikationen
Materialzusammensetzung und wichtigste Eigenschaften
Der Solid SiC Focus Ring von Semixlab wird aus hochdichtem, gesintertem SiC mit außergewöhnlicher Reinheit und kontrollierter Mikrostruktur hergestellt.
Zu den wichtigsten physikalischen Eigenschaften gehören:
| Physikalische Eigenschaften von festem SiC | |||
| Signaldichte | 3.21 | g / cm3 | |
| Elektrischer Widerstand | 102 | Ω/cm | |
| Biegefestigkeit | 590 | MPa | (6000kgf/cm2) |
| Elastizitätsmodul | 450 | GPa | (6000 kgf/mm2) |
| Vickers-Härte | 26 | GPa | (2650 kgf/mm2) |
| WAK (RT-1000℃) | 4.0 | x10-6/K | |
| Wärmeleitfähigkeit (RT) | 250 | W / mK | |
Diese Eigenschaften gewährleisten eine stabile und reproduzierbare Leistung auch unter anspruchsvollen Ätzbedingungen.
Anwendungen
Anwendungen in Halbleiter-Ätzprozessen
1. Hochdichtes Plasmaätzen (ICP/RIE)
Der SiC-Fokusring stabilisiert die Plasmadichte und die elektrische Feldverteilung nahe dem Waferrand, wodurch das Überätzen am Rand effektiv minimiert und die Gleichmäßigkeit der kritischen Abmessungen (CD) verbessert wird. Seine hohe Erosionsbeständigkeit verlängert die Lebensdauer auch bei hoher Ionenenergie.
2. Tiefes reaktives Ionenätzen (DRIE)
Bei DRIE-Prozessen – die in der MEMS- und Leistungselektronikfertigung üblich sind – übersteht der Solid-SiC-Fokusring wiederholten Ionenbeschuss und Polymerabscheidung ohne Verformung. Seine geringe Partikelerzeugung trägt zu einer höheren Ausbeute und reduzierten Wartungszyklen bei.
3. Ätzumgebungen auf Fluor- und Chlorbasis
Die chemische Inertheit von SiC verhindert eine Reaktion mit halogenbasierten Plasmagasen (SF₆, CF₄, Cl₂, BCl₃), wodurch eine langfristige Dimensionsstabilität gewährleistet und die Kammer vor Verunreinigungen oder Metalldiffusion geschützt wird.
4. Hochleistungs- und Langzeitätzen
Dank seiner hervorragenden Wärmemanagementeigenschaften leitet SiC die Wärme bei längerem Ätzen mit hoher Energie effizient ab und erhält so die mechanische Integrität und Maßgenauigkeit auch unter starker Temperaturwechselbelastung aufrecht.
Wettbewerbsvorteilen
Technische Vorteile von Semixlab
1. Fortschrittliche Materialentwicklung
Semixlab nutzt Präzisionssintern und hochreines SiC-Pulver, um eine außergewöhnliche Materialdichte und Mikrostrukturhomogenität zu erzielen. Jedes Bauteil wird CNC-bearbeitet und spiegelpoliert, was eine präzise Geometrie und minimale Plasmainterferenzen gewährleistet.
2. Vollständige Anpassungsmöglichkeiten
Wir bieten kundenspezifisch gefertigte Fokusringe an, die auf verschiedene OEM-Ätzplattformen (LAM, TEL, AMAT, Oxford usw.) zugeschnitten sind. Geometrie, Leitfähigkeit und Dicke können entsprechend Ihrer Plasmaumgebung und Wafergröße (200 mm / 300 mm / 450 mm) optimiert werden.
3. Strenge Qualitätsprüfungen
Alle SiC-Bauteile werden gemäß strengen Normen hinsichtlich Abmessungen, Wärmebeständigkeit und Plasmabeständigkeit geprüft, einschließlich:
● Überprüfung von Dichte und Porosität
● Simulation von Plasmaerosion und beschleunigte Verschleißprüfung
● Prüfung der Oberflächenrauheit (Ra ≤ 0.05 μm)
● Zertifizierung von thermischer Spannung und Ebenheit
Semixlab ist ein führender chinesischer Hersteller von hochreinen Siliziumkarbid-Komponenten (SiC) und spezialisiert auf präzisionsgefertigte SiC-Fokusringe für moderne Plasmaätzsysteme. Die Fokusringe zeichnen sich durch außergewöhnliche Plasmabeständigkeit, thermische Stabilität und Maßgenauigkeit aus und gewährleisten eine gleichmäßige Plasmaverteilung sowie eine optimale Kontrolle des Ätzprofils.
Für kundenspezifische Designs, technische Beratung oder Musterbewertung wenden Sie sich bitte an unsere Spezialisten für Halbleitermaterialien.
Unsere Dienstleistungen
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