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Hochreiner Weichfilz
Semixlabs hochreiner Weichfilz wurde speziell für anspruchsvolle Hochtemperatur-Wärmefeldanwendungen in der Halbleiterfertigung entwickelt. Hergestellt aus hochwertigen kohlenstoffbasierten Vorläufern und durch fortschrittliche Verfahren gereinigt, zeichnet sich dieser Weichfilz durch extrem niedrige Verunreinigungsgrade, hervorragende Wärmedämmung und außergewöhnliche Anpassungsfähigkeit aus. Seine flexible Struktur ermöglicht die präzise Integration in komplexe Wärmefelddesigns und sorgt so für optimierte Temperaturgradienten und stabile Prozessbedingungen. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage.
Beschreibung
Warum ist Reinheit in thermischen Feldern wichtig? Bei der Herstellung der dritten Generation?
Bei Halbleitern (SiC/GaN) neigen herkömmliche Isolierfilze mit hohem Aschegehalt (über 500 ppm) dazu, bei Temperaturen über 1600 °C metallische Verunreinigungen freizusetzen. Dies verursacht Gitterdefekte und verringert die Wafer-Ausbeute.
Der weiche Filz von Semixlab durchläuft unser exklusives Hochtemperatur-Reinigungsverfahren, wodurch der Gesamtgehalt an Verunreinigungen auf unter 5 ppm gesenkt wird. Dies gewährleistet nicht nur eine saubere Wachstumsumgebung, sondern auch die extreme thermische Stabilität, die für das Kristallwachstum über lange Zyklen hinweg erforderlich ist.
Semixlab Edge
Wir sind mehr als nur ein Lieferant – wir sind Ihr Partner für Hochtemperaturzonen. Gegründet von Forschern der Chinesischen Akademie der Wissenschaften, zeichnen wir uns durch die Kombination von Isolierlösungen mit CVD-Beschichtungen (TaC/SiC) aus. Wir liefern nicht nur Isolierfilz, sondern optimieren Ihr gesamtes Wärmefeld mithilfe von Graphitheizungen und porösem TaC zur Reduzierung des Energieverbrauchs. Unsere hauseigene 5-Achs-CNC-Bearbeitung ermöglicht die Fertigung kundenspezifischer, vormontierter Bausätze, die präzise und fehlerfrei auf Ihre Ofenkonstruktion abgestimmt sind.
Spezifikationen
| Eigenschaften im Vergleich | Hochwertiger Filz auf PAN-Basis | Hochwertiger Filz auf Viskosebasis |
| Verunreinigungen insgesamt | ≤5 ppm (GDMS) | ≤ 10 ppm |
| Kohlenstoffgehalt | ≥ 99.99% | ≥ 99.95% |
| Schüttdichte | 0.10 - 0.15 g/cm³ | 0.08 - 0.12 g/cm³ |
| Thermische Leitfähigkeit (bei 1000 °C) | 0.12 - 0.15 W/m²K | 0.09 - 0.13 W/m·K |
| Max. Betriebstemperatur. | 2800 °C (Inert/Vakuum) | 2600 °C (Inert/Vakuum) |
| Standard Dicke | 3mm / 5mm / 10mm / 20mm | 3mm / 5mm / 10mm / 20mm |
Anwendungen
Kritische Anwendungen
Praxiserprobte Leistung:
Unser speziell für das SiC- und Siliziumwachstum (PVT/CZ) entwickeltes Filzgewebe dient als thermischer Stabilisator zur Unterdrückung von Kristallversetzungen. In der MOCVD/Epitaxie (kompatibel mit Aixtron, NuFlare) bleibt es auch unter korrosiven H₂/NH₃-Strömen inert und verhindert so die Diffusion von Verunreinigungen. Beim Faserziehen und Saphirsintern gewährleistet seine Ausgasfreiheit die Vakuumdichtigkeit und verhindert Ausbeuteverluste.
Wettbewerbsvorteilen
Core Vorteile
Ultrahohe Reinheit (<5 ppm), geprüft mittels GDMS. Streng kontrollierte Al-, B-, Fe- und andere wichtige Verunreinigungen, um Kreuzkontaminationen beim epitaxialen Wachstum zu vermeiden.
Hervorragende Wärmedämmung: Eine Wärmeleitfähigkeit von nur 0.12 W/m·K bei 1000°C reduziert den Wärmeverlust und hält den Temperaturgradienten innerhalb von ±1°C.
Geringe Partikelabgabe: Durch die optimierte Faser- und Oberflächenbehandlung wird die Staubentwicklung in Vakuumzyklen reduziert und die CVD (TaC/SiC) Graphitsuszeptoren und Heizelemente werden geschützt.
Hohe Flexibilität und Passform: Weich und komprimierbar für eine nahtlose 360°-Umhüllung komplexer Öfen, wodurch Wärmeverluste durch starre Isolierung verhindert werden.
FAQ
Optimierte FAQ
F: Wie verbessert der weiche Filz von Semixlab die Lebensdauer von Graphitheizungen?
A: Durch die Bereitstellung eines stabileren Wärmeschildes reduziert unser weicher Filz die vom Heizgerät benötigte Leistungsaufnahme zur Aufrechterhaltung der Zieltemperaturen und verlangsamt dadurch die Kohlenstoffsublimation und Oxidation der Graphit-Heizelemente.
F: Kann Ihr Filz in Umgebungen mit hohem Gasdurchfluss eingesetzt werden?
A: Ja. Für Hochgeschwindigkeitsgasprozesse (wie MOCVD) empfehlen wir unseren hochdichten PAN-basierten Filz oder eine Hybridlösung mit Graphitfolienkaschierung, die Fasererosion verhindert und eine partikelfreie Verunreinigung gewährleistet.
Unsere Dienstleistungen
